台式 离子 研磨抛光仪 1060

SEM 样品制备的理想工具

离子研磨抛光仪1060是一台高质量的SEM样品制备台式精密仪器,满足几乎所有材料应用的样品制备。 离子研磨抛光仪1060是通过物理科学技术来增强样品表面特性,使用惰性气体中具有代表性的氩气作为气源,通过加速电压使其电离并撞击样品表面,在控制的范围内,通过这种动量转换的方式,氩气离子去撞击样品表面从而得到无应力损伤的理想的SEM观察样品。

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特点规格应用图库

双离子束源

离子研磨抛光仪1060配有两束离子束,可以同时聚焦在样品表面,这样大大提高了研磨抛光速度。离子束体积小,最小化了气体的需求量,但却能释放很大的能量。当操作高能量时,即使在低角度的情况下,研磨速度也很快;当操作低能量时,样品表面材料溅射出的同时也不会带来其他杂质。

真空舱体和快速样品传递

SEM离子研磨抛光仪1060的真空舱体保证了设备操作过程中持续真空,预真空锁使真空舱体与外部环境隔离,保证了样品转移过程中极佳的真空环境。小尺寸的样品舱在后期维护中清理也更加简便。

实时样品观察

遮板可以阻止溅射的材料干扰样品观察。样品表面上方内置光源用以照明。 体视显微镜-选配 SEM离子研磨抛光仪可以通过一台体视显微镜做样品观察。由于体视显微镜的工作距离较大,在研磨的时候可以直接在原处观察; 高倍率的显微成像系统-选配 SEM离子研磨切割仪可以配置一台高倍率的显微镜、数码相机以及视频显示器,通过抓取图像并将图像投影到显示器上,此种方式是制备特定位置样品的一个理想方式。 当使用高倍显微成像系统时,样品将被传送到预真空锁的真空环境中拍照,然后再返回原位置继续研磨抛光操作。

可电脑编程控制样品移动

离子研磨抛光仪1060具备样品高度自动感应功能,目前业界仅我们的1060具备此功能。这也方便了操作者可以通过电脑编程来对样品进行重复定位、调节旋转速度和往复摆动角度。摆动角度通常可以从±40˚到±60˚。

 

 

离子研磨抛光仪1060

离子研磨抛光仪1060是一台台式SEM样品制备设备,拥有两束独立可调的专利电磁聚焦离子束源,样品高度自动感应,离子束直径可直接调节,研磨参数设置简便,样品可往复摆动和360度旋转,通过电脑编程可以控制样品运动,通过体视显微镜还可直接观察和控制样品制备过程。这一切造就了1060独一无二的性能。

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应用材料种类广泛

可利用离子研磨抛光仪1060进行加工的材料来种类十分广泛,包括由多元素组成的试样,以及具有不同机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝焊缝截面、集成电路焊点、芯片BGA切片、多层薄膜截面、颗粒纤维断面、复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM样品。

  • 台式 离子 研磨抛光仪 1060夹具
  • 台式 离子 研磨抛光仪 1060-操作界面
  • 台式 离子 研磨抛光仪 1060专业版
  • 台式 离子 研磨抛光仪 1060标准版

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